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국립한밭대 김정환 교수 연구팀, ....

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글쓴이 최고관리자 등록일 24-02-01 18:57
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    원자층 증착법 기술 이용, 다양한 기판에 적용 가능한 저온 박막 공정 기술 개발

    국립한밭대학교는 신소재공학과 김정환 교수 연구팀과 한양대학교 박태주 교수 연구팀의 공동 연구 성과가 재료과학, 코팅&막 분야 국제 1위 학술지인 ‘Applied Surface Science’에 게재됐다.

    국립한밭대 신소재공학과 김수연 석사연구원이 제1저자로 발표한 논문은 ‘Reduced leakage current in atomic-layer-deposited HfO2 thin films deposited at low temperature by in-situ defect passivation’으로, 반도체 소자 성능 향상에 기여할 수 있는 저온 박막 공정 기술 연구에 관한 내용이다.

    본 논문에서는 소자 내 결함을 제거하기 위해 제약이 많은 고온의 후공정이 아닌 저온에서 원자층 증착법 기술을 사용하여 누설전류밀도를 1/7로 감소시켜 문제를 개선하였다. 

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